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本公司推出新一代的導電高分子圖案化(Patterning)蝕刻劑
發佈日期:2013.05.01
本公司推出新一代的導電高分子圖案化(Patterning)蝕刻劑,製程快速,蝕刻痕的色差少,生產成本更低,符合R2R製程,可用於觸控面板Sensor與OLED生產使用. 材料與製程專利申請中.
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