最新消息

本公司透明導電膜圖案化(Patterning)材料與製程 獲得台灣,中國大陸與日本發明專利

發佈日期:2014.08.17

本公司的透明導電高分子圖案化(Patterning)材料與製程獲得台灣,中國大陸與日本發明專利, 本專利技術具有高解析度,可減少製程步驟,降低設備投資與高可靠度,適合用於觸控sensor, OLED,可繞式LCD等應用.