本公司研發出透明高導電高分子塗料圖案化(Patterning)製程技術
發佈日期：2011.05.03
本公司自行研發的特殊patterning技術,係使用本公司特別研發出的特殊材料形成mask,使導電高分子在底材上交互作用來形成圖案化,線徑可達60-90 micros以下,可解決長久以來導電高分子不易圖案化的問題,歡迎洽詢,多國專利申請中.
最新消息
本公司自行研發的特殊patterning技術,係使用本公司特別研發出的特殊材料形成mask,使導電高分子在底材上交互作用來形成圖案化,線徑可達60-90 micros以下,可解決長久以來導電高分子不易圖案化的問題,歡迎洽詢,多國專利申請中.