本公司自行研發的特殊patterning技術,係使用本公司特別研發出的特殊材料形成mask,使導電高分子在底材上交互作用來形成圖案化,線徑可達60-90 micros以下,可解決長久以來導電高分子不易圖案化的問題,歡迎洽詢,多國專利申請中.新聞發表: Press Release on Printed Electronics World
